一、核心原理

真空系統(tǒng)：機(jī)械泵（低真空≈10?1 Pa）或機(jī)械泵 + 分子泵（高真空≈10?3~10?? Pa）抽除爐內(nèi)空氣，防氧化、脫碳。

氣氛控制：真空后通入 N?、Ar、H?等，形成保護(hù) / 還原環(huán)境；配流量計(jì)精準(zhǔn)控氣。

加熱系統(tǒng)：電阻絲（≤1200℃）、硅碳棒（≤1400℃）、硅鉬棒（≤1700℃）發(fā)熱，PID 程序控溫（±1℃）。

爐體結(jié)構(gòu)：雙層水冷 / 風(fēng)冷，高純氧化鋁陶瓷纖維爐膛，密封防漏氣。

二、關(guān)鍵參數(shù)（實(shí)驗(yàn)室主流）

溫度：1200℃、1400℃、1700℃（常用）

真空度：低真空（10?1 Pa）、高真空（10?3 Pa）

爐膛尺寸（mm）：

小型：100×100×100（1L）

中型：200×150×150（4.5L）、300×200×200（12L）

氣氛：N?、Ar、H?（≤5% 防爆）、O?

控溫：30~50 段程序，升溫 1~15℃/min 可調(diào)。

三、典型應(yīng)用

新材料：鋰電材料（三元、磷酸鐵鋰）燒結(jié)、納米材料制備、陶瓷（Al?O?、ZrO?）燒結(jié)。

金屬：稀有金屬（W、Mo、Ti）退火、硬質(zhì)合金釬焊、粉末冶金燒結(jié)。

電子半導(dǎo)體：硅片退火、陶瓷基板金屬化、元器件真空除氣。

科研實(shí)驗(yàn)：高校 / 院所材料合成、高溫相變、氣氛反應(yīng)研究。

四、2026 年參考價(jià)格（人民幣）

1200℃，低真空（機(jī)械泵）

1L：￥1.18 萬

4.5L：￥1.45 萬

12L：￥1.8 萬

1400℃，低真空

1L：￥1.45 萬

4.5L：￥1.65 萬

12L：￥1.99 萬

1700℃，高真空（分子泵組）

12L：￥3.2 萬

16L：￥4.2 萬

高配（觸摸屏 + 氣氛配比 + 安全聯(lián)鎖）：上浮 ￥1~3 萬。

五、與真空箱式電阻爐的區(qū)別

真空氣氛爐：主打氣氛可控（通 N?/Ar/H?），真空 + 氣氛雙模式，適合防氧化、還原工藝。

真空箱式電阻爐：以真空為主，少通氣氛，側(cè)重真空燒結(jié)、退火，價(jià)格略低。

六、選購要點(diǎn)

溫度：常用 1400℃（硅碳棒），1700℃選硅鉬棒。

真空度：普通實(shí)驗(yàn)選低真空；精密實(shí)驗(yàn)選高真空。

氣氛：常規(guī)用 N?/Ar；需還原選 H?（注意防爆）。

尺寸：按樣品量選，預(yù)留 20% 空間。

安全：超溫報(bào)警、過流保護(hù)、漏氣檢測、H?防爆設(shè)計(jì)。